지식재산 다봄

BACKSTAGE(백스테이지) 상표 한국 출원 현황

영문 표장명 BACKSTAGE로 외국 출원인이 한국에 낸 상표 출원과 등록. 자료: 상표공보 자료 2026-10-01, 그 뒤 출원은 매일 수집 자료 2026-11-09까지.

영어판: BACKSTAGE trademark filings in Korea

아래 출원번호를 누르고 「이 상표 지켜보기」를 고르시면, 그 상표의 심사 경과가 바뀔 때 메일로 알려 드립니다. 메일 주소만 있으면 되고 가입이나 비밀번호는 없습니다.

한국 출원 (외국 출원인)8건
등록5건
심사 중 (출원·출원공고)0건
가장 이른 출원일2006-03-13
가장 늦은 출원일2020-07-30

BACKSTAGE 영문 이름과 함께 쓰인 한글 표기

영문 표장명이 BACKSTAGE인 한국 상표 출원에 함께 적힌 한글 표장명과 그 출원 건수(출원인 구분 없음).

한글 표기출원 건수
백스테이지3

출원 목록

출원번호표장출원인상태출원일등록번호존속기간 만료일
4020200133854BACKSTAGE에이치에프씨 프레스티지 인터내셔널 오퍼레이션스 스위츨랜드 에스에이알엘거절2020-07-30
4020147006603BACKSTAGEParfums Christian Dior등록2014-06-2040115213600002034-06-20
4020140003056BACKSTAGE파르횡 크리스티앙 디올등록2014-01-1540108287500002035-01-21
4020130028927BACKSTAGE파르횡 크리스티앙 디올거절2013-05-03
4520100001292Backstage소니그룹주식회사소멸2010-03-3145003687300002021-11-08
4020107000019BACKSTAGEMicrosoft Corporation등록2009-11-0240085533500002029-11-02
4020077000497BACKSTAGEPARFUMS CHRISTIAN DIOR SA등록2006-11-2840073628400002036-03-10
4020060012940BACKSTAGE파르횡 크리스티앙 디올등록2006-03-1340069693100002027-02-06

BACKSTAGE 이름이 들어간 한국 출원

표장명에 BACKSTAGE(단어 단위)나 위 한글 표기가 들어간 등록·공고·심사 중 출원(글자 대조). 전체 12건, 최근 12건 표시.

출원번호표장상태출원일
4020260074228BACKSTAGE CREW출원2026-04-14
4020220147115backstage등록2022-08-08
4020180016533BACKSTAGE등록2018-02-05
4020180016534BACKSTAGE등록2018-02-05
4020150044977BLACK MARTINE SITBON BACKSTAGE등록2015-06-17
4020150044978BLACK MARTINE SITBON BACKSTAGE등록2015-06-17
4020150002359BLACK MARTINE SITBON BACKSTAGE등록2015-01-13
4020150002361BLACK MARTINE SITBON BACKSTAGE등록2015-01-13
4020150002364BLACK MARTINE SITBON BACKSTAGE등록2015-01-13
4020150002366BLACK MARTINE SITBON BACKSTAGE등록2015-01-13
4020150002367BLACK MARTINE SITBON BACKSTAGE등록2015-01-13
4120130049682BACKSTAGE등록2013-12-24

출처: 지식재산처 상표공보 자료와 매일 수집한 출원 자료(상표공보 자료 2026-10-01, 그 뒤 출원은 매일 수집 자료 2026-11-09까지). 매일 수집 출원은 이 브랜드의 기존 출원과 출원인 이름이 같을 때만 이 목록에 넣음. 묶음 기준: 영문 표장명이 똑같은 출원. 대상: 출원인이 모두 외국인인 출원. 출원인 이름은 이 브랜드 출원에만 표시.

BACKSTAGE 이름이 들어간 새 한국 출원은 상표 조사에서 확인할 수 있습니다. 함께 보기: 외국 브랜드 한국 출원 목록, 상표 이의신청 기간과 절차.