지식재산 다봄

EPOCH

출원번호40-2006-0051280
등록번호40-0721535
상태등록
출원일2006-10-11
출원공고일2007-06-07
등록일2007-08-20
상품류제1류

지정상품

제1류
  • 감광제용 박리제 (Photoresist Stripper)
  • 광산업 및 광전자공학의 직접회로 공정용 세정액 (Cleaning solution for process of Integrated Circuit in the optoelectronics and photonics industries)
  • 반도체 제조 또는 공정용 패드 세정액 (Pad cleaning solution for use in the manufacturing or process of semiconductors)
  • 반도체 제조 또는 공정용 포스트 쿠퍼 화학 기계적 연마 세정액 (Post-Copper chemical mechanical planarization cleaning solution for use in the manufacturing or process of semiconductors)
  • 반도체의 제조 또는 공정용 포스트 애쉬 세정액 (Post-ash cleaning solution for use in the manufacturing or process of semiconductors)
  • 벤조트리아졸(Benzotriazole/BTA - 산화방지제의 일종으로 주로 구리계 리드프레임의 산화 및 부식 방지에 사용)
  • 엘-프롤린액 (L-Proline solution)
  • 전자공학산업용 세정제 (Cleaner for use in electronic industries)

영문 이름 EPOCH의 다른 한국 출원: EPOCH 상표 한국 출원 현황 (16건)